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Étude de la croissance dendritique du cuivre dans l'acide oxalique: Application au procédé de nettoyage post-CMP en microélectronique (Omn.Univ.Europ.)

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Étude de la croissance dendritique du cuivre dans l'acide oxalique: Application au procédé de nettoyage post-CMP en microélectronique (Omn.Univ.Europ.)

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    Elodie Ostermann(Author)
Si rien ne se perd, rien ne se crée, la matière, en tout cas, ne cesse de se transformer : elle change de forme, de couleur, d'état et de nature en se combinant, en se dissociant et en interagissant. La corrosion électrochimique est une des voies dont dispose la matière pour se transformer et peut être rencontrée dans des domaines très différents, tels que dans l'industrie microélectronique lors de certains traitements de surface. Le cuivre est utilisé pour réaliser les interconnexions des microcircuits. L'intégration de ce métal nécessite un polissage, un nettoyage à l’acide et un rinçage,appelé "post-CMP cleaning", afin d'éliminer les particules abrasives, les résidus du polissage et la contamination. Cette dernière étape est parmi les plus critiques et des phénomènes de croissance dendritique peuvent se produire sur des sites privilégiés. Le but de ce travail est d'avoir une meilleure compréhension des processus électrochimiques impliqués pendant le nettoyage qui suit le polissage mécano-chimique du cuivre.

A l'issue d'une thèse de doctorat dans le domaine de la microélectronique, Elodie Ostermann a travaillé dans un cabinet de propriété industrielle puis a rejoint le CEA-Leti en tant qu'Ingénieur Brevets. Cette fonction est l'occasion pour elle d'allier deux thématiques qui lui tiennent à coeur : les sciences et la protection des invention.

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Book details

  • PDF | 260 pages
  • Elodie Ostermann(Author)
  • Editions universitaires europeennes (14 Mar. 2012)
  • French
  • 8
  • Poetry, Drama & Criticism
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